两位全球科技行业头部企业的刻机掌舵人先后给出的相似判断 ，正在逐步形成合力 ，啥时斯克靠单位算力输出的候到黄仁实际性能 ，黄仁勋给出的勋马判断是 ，中国到2030年左右就能拿出完全自研的惊人先进光刻系统。补齐当前阶段的欧美算力供给缺口 。几乎站在了全球顶尖梯队 。怕中
他进一步解释 ，国自大概两到三年时间内 ，研光一旦相关核心技术完成突破走向成熟 ，刻机
就在之前接受央视财经专访的过程中 ，NVIDIA CEO黄仁勋也曾回应过主持人提出的相关问题 ，马斯克也提到 ，给出了一个粗略的预判 ，
早前举办的All-In科技峰会上 ，目前中国本土的AI大模型技术 ，
中国本土企业就会爆发出极强的大规模量产能力 ，当时他被问到中国什么时候能完全自主研发出先进光刻机 ，会比绝大多数海外行业从业者预估得更快 ，大概两到三年内 ，近期马斯克在公开访谈中给出了自己的判断 ，从光刻设备到成熟制程芯片制造的各项技术突破 ，从整体表现来看完成度非常出色 ，这些国产半导体制造设备进入本土晶圆厂完成规模化落地 ，自己认为中国解决算力供给问题的速度 ，
黄仁勋还补充提到 ，也侧面印证了国内半导体全链条自主研发的推进速度远超外界此前的预期 ，最终为AI产业的健康发展筑牢稳固的算力底盘 。